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半導(dǎo)體器件極易受到多種沾污的損害，隨著半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展，顆粒污染對(duì)成品率的影響越來(lái)越大，因此需要對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中影響成品率的顆粒污染進(jìn)行有效控制。

沾污經(jīng)常導(dǎo)致有缺陷的芯片，致命的缺陷是導(dǎo)致硅片上的芯片無(wú)法通過(guò)電學(xué)測(cè)試的原因。據(jù)估計(jì)80％的芯片電學(xué)失效是由沾污帶來(lái)的缺陷引起的，電學(xué)失效引起的成品率損失，導(dǎo)致硅片上的管芯報(bào)廢，以及很高的芯片制造成本。

為了使芯片上的器件功能正常，避免硅片制造中的沾污是絕對(duì)必要的。隨著器件關(guān)鍵尺寸的縮小，對(duì)沾污的控制要求變得越來(lái)越嚴(yán)格。因此領(lǐng)先的晶圓設(shè)備，微粒過(guò)濾和控制AMC是必須的。微粒過(guò)濾和控制AMC是高收益、低退貨率的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)首要擔(dān)心的問(wèn)題。不能很好的在潔凈室或設(shè)備中控制微粒或AMC將大大的削弱企業(yè)的經(jīng)營(yíng)利潤(rùn)。

半導(dǎo)體制造工藝要求：
半導(dǎo)體制造工藝生產(chǎn)過(guò)程的潔凈等級(jí)要求比較高，要求一般的是光照制造，還有微環(huán)境，其他的一些大的區(qū)域，包括薄膜等在百級(jí)。潔凈度的要求是不是越高越好，這個(gè)主要還是決定我們的設(shè)計(jì)，或者對(duì)生產(chǎn)的要求，潔凈度越高意味著FFU覆蓋率會(huì)成倍的增加。

一 目前對(duì)一些潔凈室的設(shè)計(jì)還是大環(huán)境，不需要很高的潔凈度。還有濕度控制，濕度控制主要通過(guò)循環(huán)通氣冷卻系統(tǒng)，去除潔凈室循環(huán)空氣的顯熱，最終控制潔凈室溫度。濕度控制主要通過(guò)新風(fēng)控制箱進(jìn)行控制，溫度的控制目的有兩個(gè)，首先是人員的舒適性，溫度在21-23度都沒(méi)有問(wèn)題，作為制程來(lái)說(shuō)我們關(guān)注的是波動(dòng)性。控制潔凈房的濕度主要目的是濕度過(guò)低將容易產(chǎn)生靜電、濕度過(guò)高，對(duì)產(chǎn)品的影響。

二 正壓，通過(guò)潔凈室內(nèi)的壓力傳感器控制MAU風(fēng)機(jī)的頻率改變送風(fēng)量保持潔凈室的設(shè)定正壓，靜壓層保持微正壓。

三 照度和噪聲，現(xiàn)在半導(dǎo)體制造設(shè)備尺寸越來(lái)越大，安裝起來(lái)一部分照明會(huì)被遮掩，噪聲的問(wèn)題比較難解決，主要在設(shè)備選型的時(shí)候注意。

半導(dǎo)體通過(guò)產(chǎn)車(chē)間凈化解決方案說(shuō)明:

潔凈室的主要的問(wèn)題是產(chǎn)品、工具、加工過(guò)程和氣味控制的污染 。傳統(tǒng)的通風(fēng)形式是在車(chē)間的整個(gè)天花板上布滿(mǎn)高效過(guò)濾器，整個(gè)地面為回風(fēng)柵板。

如今我公司生產(chǎn)的FFU使用自帶風(fēng)機(jī)的空氣過(guò)濾裝置，解決了繁復(fù)的安裝和性?xún)r(jià)比問(wèn)題，是目前市場(chǎng)上一種安靜、價(jià)格優(yōu)良的機(jī)組，為潔凈室輸送高質(zhì)量的循環(huán)空氣。

空氣進(jìn)入天花板內(nèi)的特效顆粒過(guò)濾器，以層流模式流向地面，進(jìn)入到空氣再循環(huán)系統(tǒng)后與補(bǔ)給的空氣一道返回空氣過(guò)濾器系統(tǒng)。位于天花板中的特效顆粒過(guò)濾器，要么是高效顆粒空氣過(guò)濾器（HEPA）要么是超低滲透率空氣過(guò)濾器（ULPA）。HEPA纖維過(guò)濾器用玻璃纖維制作成形，產(chǎn)生層狀氣流。

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